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摩爾定律由於顯影 （Lithography） 技術障礙受到挑戰。產業界使用 193nm（ArF） 光源搭配浸潤式顯影 （Immersion lithography） 技術製造晶片，但在 7 奈米的考驗下，採用顯影及多重曝光技術僅能做單一方向微縮，無法做 2 個方向的微縮，以往隨著製程微縮，每晶片成本隨之下降情況已不復見。
波長更短的 EUV 便成為 7 奈方以下製程的重要解決方式。目前 Samsung 已導入 EUV 的 7nm LPP 製程，並宣稱光罩模塊總數減少約 20%。而隨著尺寸愈做愈小，這種減少可能會更多。
但 EUV 的致命缺點在於昂貴。業界指出，EUV 機器的成本幾乎是目前生產中使用的 ArF 工具的兩倍。ArF 機器價格要價約 5600-6200 萬美元，EUV 機器價格 1 台上看 1.2 億美元，大幅墊高晶圓代工廠商資本支出，這也使得 7 奈米的技術愈來愈少廠商玩得起。
拓墣產業研究指出，目前宣告產品採用 7 奈米的廠商蘋果、Samsung、華為、NVIDIA 與 AMD，若非前幾大智慧手機品牌，就是 CPU/GPU 重要大廠，為了產業上的領先地位，價格敏感度也較低，也有較大生產量，才能分攤光罩、設計與製造等成本。
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