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而台積電今日晚間指出，導入極紫外光（EUV）微影技術之7奈米強效版（N7+）製程已協助客戶產品大量進入市場。N7+奠基於公司成功的7奈米製程之上，也為6奈米和更先進製程奠定良好基礎。
台積電也說N7+的量產速度為史上量產速度最快的製程之一，於2019年第二季開始量產，在7奈米製程技術（N7）量產超過一年時間的情況下，N7+良率與N7已相當接近。
N7+提供了整體效能的提升，N7+的邏輯密度比N7提高了15%至20%，並同時降低了功耗，使其成為業界下一波產品中更受歡迎的製程選擇。公司也快速布建產能以滿足多個客戶對於N7+的需求。
台積電指出，EU微影技術使公司能夠持續推動晶片微縮，因EUV的較短波長能夠更完美地解析先進製程的設計。公司的EUV設備已達成熟生產的實力，EUV設備機台亦達大量生產的目標，在日常運作的輸出功率都大於250瓦。
台積電業務開發副總經理張曉強博士表示，AI和5G的應用為晶片設計開啟了更多的可能，得以有許多新的方式改善人類生活，台積電的客戶充滿了創新及領先的設計理念，需要公司的技術和製造能力使其實現，在EUV微影技術上的成功，是公司不僅能夠具體落實客戶的領先設計，同時憑藉卓越的製造能力，也能使其大量生產的另一個絕佳證明。
台積電指出，N7+的成功經驗是未來先進製程技術的基石，公司的6奈米製程技術（N6）將於2020年第一季進入試產，並於年底前進入量產。隨著EUV微影技術的進一步應用，N6的邏輯密度將比N7提高18%，而N6憑藉著與N7完全相容的設計法則，也可大幅縮短客戶產品上市的時間。
