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中微半導體從 28nm 製程時開始和台積電合作，雙方合作關係一路延續到 10nm 及後續 7nm 製程，中微同時也是唯一參與台積電 7nm 製程的中國刻蝕設備商，其 5nm 刻蝕機更是突破關鍵技術，躋身全球刻蝕機前段班。
中微 2004 年初創時，全球最先進的晶片生產線是 90nm 製程，當時他們便已開始研發 40nm 刻蝕機，藉由超前布局研發，結合本土和海外引進的國際化團隊，為刻蝕機研發系統工程奠定厚實基礎。
目前，中微半導體已於全球設置 582 台刻蝕反應台，預期今年再增長至 770 台。明年隨著台積電進入 5nm 製程，預期已通過驗證的 5nm 刻蝕機能進一步擴大市場份額。
中微執行長尹志堯表示，未來 10 年將持續開發新產品，藉由自主創新，加速擴大市佔率，達成 2020 年 20 億元，以及 2050 年 50 億元的產品銷售額。
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