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美國去年10月以國安為由，對科林研發（Lam Research）和應用材料（Applied Materials）等美國企業出口晶片製造工具實施出口限制，並遊說其他主要供應商的國家採取類似行動。
中國駐美大使館發言人劉鵬宇對美國此舉予以譴責，稱美方「蓄意封殺、束縛中國企業，強行搬遷產業，推動脫勾」，還稱中方會「密切關注事態發展、堅定維護自身利益」。
擁有晶片設備製造商尼康公司（Nikon Corp）、東京威力科創公司（Tokyo Electron Ltd.）的日本，通過限制23種半導體製造設備出口的規定，並將在7月23日生效。
荷蘭政府計劃30日宣布新規定，要求艾司摩爾第2大產品深紫外光曝光機（Deep Ultraviolet lithography, DUV）設備出口前需先提出許可申請。在此之前，艾司摩爾最精密的極紫外光曝光機（Extreme ultraviolet, EUV）已經受限，禁止出口到中國。
艾司摩爾曾於3月表示，預料荷蘭這項規定，將影響TWINSCAN NXT:2000i和其他更精密的設備。
不過艾司摩爾較舊型的DUV設備，如TWINSCAN NXT:1980Di等，也可能遭美國限制出口給中國6家企業。知情人士表示，預料在新的規定中，外國設備就算只用了少量美國零件，也不得賣給法令中點名的6家中國企業。
消息人士表示，荷蘭新的規定不會立即生效。一名人士則表示，預料9月才會生效。
至於美國擬定的新規定，消息人士透露，可能會在7月下旬公布，將要求設備出口給6家中國企業時，必須先獲得許可，其中包括中國最大晶片製造商中芯國際（SMIC）經營的晶圓廠。但該人士說，許可證可能會遭駁回。
美國新的規定預料將適用於全球領先的晶片設備製造商、荷蘭最大企業艾司摩爾，因為其系統包含美國的零件。（譯者：李晉緯/核稿：陳昱婷）1120630
