涉侵權美光案二審改判罰2千萬 聯電欣慰:感謝公正裁判

▲針對涉嫌侵權美光案,今(27)日智慧財產及商業法院二審判決出爐,改輕判聯電罰金2000萬元新台幣、緩刑2年。(圖/取自聯電官網)
▲針對涉嫌侵權美光案,今(27)日智慧財產及商業法院二審判決出爐,改輕判聯電罰金2000萬元新台幣、緩刑2年。(圖/取自聯電官網)

記者許家禎/台北報導

美光科技之前控告聯電涉嫌侵害先進DRAM製程等機密案,一審台中地院依違反營業秘密法,判處聯電相關涉案人4年半至6年半不等徒刑,聯電也被判處罰金1億元。而今(27)日智慧財產及商業法院二審判決出爐,改輕判聯電罰金2000萬元新台幣、緩刑2年。

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針對該案,一審台中地院判處聯電協理等3人分別4年半至6年半不等徒刑,聯電也被判處罰金1億元。聯電提起上訴,二審判決今日出爐,一審判決撤銷,涉案的3名員工為無罪及6月至1年不等徒刑,均得緩刑,並改判聯電罰金2000萬元新台幣、緩刑2年。

事實上,聯電與美光雙方關係逐漸好轉,去(2021)年11月,雙方共同宣布達成全球和解協議,各自撤回向對方提出的訴訟,聯電也向美光支付金額保密的和解金。

而二審判決今日出爐,聯電今日也發出聲明表示,聯電對前開判決表示欣慰,並感謝法院依據事實公正裁判。聯電並深切期望檢方尊重上訴審法院之判決,以及聯電與美光公司於2021年11月達成之全球和解,讓本案得以畫下句點。

聯電指出,公司為半導體晶圓專工業的全球領導者之一,專注於邏輯及特殊技術,為跨越電子行業的各項主要應用提供高品質的晶圓製造服務。在各領域提供具有競爭力之產品及服務之際,聯電將持續落實並優化有關營業秘密之保護與防免的政策與措施。也將持續盡全力於發展晶圓專工本業,以期在激烈競爭之全球半導體市場上立足,並為我國科技與經濟發展作出積極貢獻。



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