台積電2奈米製程機密外洩案持續延燒。曾任職台積電的工程師陳力銘,離職後被控勾結仍在台積電任職的工程師吳秉駿、戈一平,涉嫌大量翻拍、外流2奈米晶片製程等核心技術,3人遭檢方依《國家安全法》等罪嫌起訴,且目前均在押。審理本案的智慧財產及商業法院認定,3人仍有勾串共犯、滅證之虞,裁定自2月1日起延長羈押2個月,農曆年將在看守所中度過,但仍可與配偶、直系血親接見與通信。
檢方調查,陳力銘自台積電離職後,涉嫌透過仍在職的吳、戈二人,取得台積電列為高度機密的2奈米晶片製程資料,並擅自翻拍、重製相關內容,帶著技術投靠台積電設備供應鏈中的日商東京威力科創公司,涉犯情節重大。全案於去年8月底由台灣高等檢察署智慧財產分署偵結起訴。
檢方起訴時指出,台積電2奈米製程屬《國家安全法》所定之「國家核心關鍵技術之營業秘密」,依法不得竊取、侵占、擅自重製或洩漏。檢方認定陳力銘為主嫌,建請法院判處14年有期徒刑;吳秉駿、戈一平分別求刑9年與7年。
依《國家安全法》規定,若涉及國家核心關鍵技術之營業秘密遭不法侵害,最重可處5年以上、12年以下有期徒刑,並得併科新台幣500萬元以上、1億元以下罰金。法院後續將持續審理,全案仍在偵審程序中。
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檢方起訴時指出,台積電2奈米製程屬《國家安全法》所定之「國家核心關鍵技術之營業秘密」,依法不得竊取、侵占、擅自重製或洩漏。檢方認定陳力銘為主嫌,建請法院判處14年有期徒刑;吳秉駿、戈一平分別求刑9年與7年。
依《國家安全法》規定,若涉及國家核心關鍵技術之營業秘密遭不法侵害,最重可處5年以上、12年以下有期徒刑,並得併科新台幣500萬元以上、1億元以下罰金。法院後續將持續審理,全案仍在偵審程序中。