汎銓4月營收2.12億元，月減5.55%，但仍較去年同期成長20.24%，創歷年同期新高、歷史第三高。累計今年前4月營收7.91億元，年增23.36%，同樣刷新同期紀錄。
此外，汎銓也公布第1季營收改寫同期新高，受惠材料分析與AI晶片分析需求支撐，加上海外據點貢獻逐步放大，單季合併營收5.79億元，年增24.54%。不過公司仍處於虧損，稅後淨損3185萬元，每股虧損0.61元。
雖然第1季尚未轉盈，但獲利結構已有改善。汎銓第1季毛利率21.58%，較去年同期增加8.43個百分點，帶動虧損幅度收斂。公司表示，隨著材料分析、AI晶片相關委案需求維持高檔，整體營運規模與毛利表現均較去年同期提升，營運正朝改善方向推進。
公司指出，半導體與AI客戶持續投入先進製程、矽光子等研發，帶動材料分析、失效分析與光學檢測需求增加。除既有檢測分析業務外，汎銓也積極拓展矽光子量測與設備市場。已取得台灣、日本及美國「光損偵測裝置」相關發明專利，未來將結合矽光子量測服務、設備銷售與授權模式，擴大營收來源。
汎銓對營運維持審慎樂觀看法，主要成長動能包括埃米世代製程材料分析、AI客戶專區合作深化、矽光子新商模，以及台灣、日本、美國等半導體重點區域布局。
汎銓6日盤中一度衝上千元大關並改寫新高，但隨後賣壓出籠，股價翻黑走弱，終場跌停收在878元。
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雖然第1季尚未轉盈，但獲利結構已有改善。汎銓第1季毛利率21.58%，較去年同期增加8.43個百分點，帶動虧損幅度收斂。公司表示，隨著材料分析、AI晶片相關委案需求維持高檔，整體營運規模與毛利表現均較去年同期提升，營運正朝改善方向推進。
公司指出，半導體與AI客戶持續投入先進製程、矽光子等研發，帶動材料分析、失效分析與光學檢測需求增加。除既有檢測分析業務外，汎銓也積極拓展矽光子量測與設備市場。已取得台灣、日本及美國「光損偵測裝置」相關發明專利，未來將結合矽光子量測服務、設備銷售與授權模式，擴大營收來源。
汎銓對營運維持審慎樂觀看法，主要成長動能包括埃米世代製程材料分析、AI客戶專區合作深化、矽光子新商模，以及台灣、日本、美國等半導體重點區域布局。
汎銓6日盤中一度衝上千元大關並改寫新高，但隨後賣壓出籠，股價翻黑走弱，終場跌停收在878元。
